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400-677-0098
关键词:碳化硅涂层炉化学气相沉积炉碳化硅沉积炉CVD/CVI系统
立式化学气相沉积炉(SiC、BN)
立式化学气相沉积炉(SiC、BN)
产品描述:
立【lì】式化学气【qì】相沉积炉(SiC、BN)可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等
应用范围:
外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等

立式化学气相沉积炉(SiC、BN)技术特征

采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流【liú】量和压力,炉膛内沉积气流稳定【dìng】,压力波动范围小;

全密闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

多通道工艺气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

多级高效尾气处【chù】理方式系统,能有效处理方式高腐蚀性尾气、易【yì】燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物,环境友好;

可选配新设计的防腐蚀真空机组,持续工作时间段长,维修率极低;

使用工艺气氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。

立式化学气相沉积炉(SiC、BN)产品规格

参数\型号VCVD-0305-SICVCVD-0608-SICVCVD-0812-SICVCVD-1120-SICVCVD-1520-SIC
工作区尺寸D×H(mm) 300×500 600×800 800×1200 1100×2000 1500×2000
最高温度调节(℃) 1500 1500 1500 1500 1500
温度调节均匀性(℃) ±5 ±7.5 ±7.5 ±10 ±10
极限真空度(Pa) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
压升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67
加热方式电阻电阻电阻电阻电阻

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术【shù】方案和协议为【wéi】准。

立式化学气相沉积炉(SiC、BN)配置选择

结构形式:卧式-单开门/双开门;立式-上出料/下出料

炉门锁紧方式:手动/自动

炉壳材质:内层不锈钢/全不锈钢

保温材质:碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡/陶瓷纤维毡

加热器、马弗材质:石墨/CFC/金属

热电偶:K/N/C/S分度号

真空泵:机械泵组/耐腐蚀泵组

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碳基复合材料热工装备

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