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碳化硅化学气相沉积炉
碳化硅化学气相沉积炉
碳化硅化学气相沉积炉可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等
客户名称:
中国科学院上海应用物理研究所
设备名称:
碳化硅化学气相沉积炉
规格型号:
VCVD-0305-SiC
加工物料:
碳化硅制品

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